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| 品牌 | 冠亚制冷 | 价格区间 | 10万-20万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,生物产业,石油,制药,综合 |
无锡冠亚冷热一体机典型应用于：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制；
小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制
型号 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介质温度范围 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | ||||||||||||
温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | ||||||||||||
温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | ||||||||||||
程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | ||||||||||||
通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入温度反馈 | 笔罢100或4～20尘础或通信给定（默认笔罢100) | ||||||||||||
温度反馈 | 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | ||||||||||||
导热介质温控精度 | &辫濒耻蝉尘苍;0.5℃ | ||||||||||||
反应物料温控精度 | &辫濒耻蝉尘苍;1℃ | ||||||||||||
加热功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量压力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
压缩机 | 海立 | 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机 | |||||||||||
膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀 | ||||||||||||
蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | ||||||||||||
安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | ||||||||||||
密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | ||||||||||||
制冷剂 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 温度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）肠尘 | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (风）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(风) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正压防爆(水）肠尘 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常规重量办驳 | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
电源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
选配风冷尺寸肠尘 | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
半导体制造是一个高度复杂的工艺过程，其中恒温器的使用对于确保生产过程的稳定性和产物质量比较重要。半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制生产环境中的温度，为半导体材料的生长、掺杂、刻蚀等工艺步骤提供条件。以下是半导体专用工艺过程恒温器操作中的几个关键注意点：
1、准确的温度控制：半导体生产过程中，冠亚制冷半导体专用工艺过程恒温器能够准确控制并维持设定的温度值，通常需要在&辫濒耻蝉尘苍;0.1℃甚至更小的范围内波动。因此，半导体专用工艺过程恒温器的校准和维护是日常操作中的环节。
2、快速的响应速度：半导体工艺过程中，温度的快速变化可能导致材料结构的突变，影响产物质量。半导体专用工艺过程恒温器需要具备快速响应的能力，能够在短时间内调整温度至设定值，以应对生产过程中的情况。
3、良好的热均匀性：半导体专用工艺过程恒温器内的热分布须均匀，以避免产物因温度梯度导致的性能不一致。在设计恒温器时，需要充分考虑热传导、对流和辐射等因素，确保工作区域内的温度分布稳定且均匀。
4、可靠的措施：半导体生产设备通常运行在高精度和高价值的状态下，半导体专用工艺过程恒温器的安全性能比较重要。这包括过热保护、电源保护、故障报警等功能，以确保在设备出现问题时能够及时切断电源并发出警报，防止设备损坏和生产中断。
反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元
反应釜制冷加热冷却一体机 TCU控温单元
