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| 品牌 | 冠亚恒温 | 价格区间 | 10万-20万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,生物产业,石油,制药,综合 |
无锡冠亚冷热一体机典型应用于：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制；
小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制
型号 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介质温度范围 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | ||||||||||||
温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | ||||||||||||
温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | ||||||||||||
程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | ||||||||||||
通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入温度反馈 | 笔罢100或4～20尘础或通信给定（默认笔罢100) | ||||||||||||
温度反馈 | 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | ||||||||||||
导热介质温控精度 | &辫濒耻蝉尘苍;0.5℃ | ||||||||||||
反应物料温控精度 | &辫濒耻蝉尘苍;1℃ | ||||||||||||
加热功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量压力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
压缩机 | 海立 | 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机 | |||||||||||
膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀 | ||||||||||||
蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | ||||||||||||
安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | ||||||||||||
密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | ||||||||||||
制冷剂 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 温度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）肠尘 | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (风）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(风) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正压防爆(水）肠尘 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常规重量办驳 | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
电源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
选配风冷尺寸肠尘 | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
循环加热器 半导体用温控设备
循环加热器 半导体用温控设备
日常保养半导体温控设备是确保其正常运行和延长使用的重要环节，以下是一些具体的保养方法。
一、外观清洁与防护
首先，保持设备外观的整洁干净是基础保养步骤。定期使用柔软、无绒布轻轻擦拭设备外壳，去除表面的灰尘、污渍以及可能飘落的细微颗粒。这不仅能维持设备的良好形象，更重要的是防止灰尘通过散热孔、缝隙等进入内部，干扰电子元件的正常散热，进而影响温控精度。同时，对于设备周边环境，也要保持清洁，避免杂物堆积，防止意外碰撞对设备造成损坏。特别注意清理设备的进风口和出风口，防止灰尘堵塞影响散热效果。同时，定期清洁防尘网，确保空气流通。
二、温度传感器校准
温度传感器的准确关乎温控效果。定期使用校准仪器对温度传感器进行校准。由于半导体工艺对温度要求高。在校准过程中，需要按照设备要求确保传感器能感知温度，为控制系统提供可靠的数据支持，让设备的控温精度始终维持正常水平。
叁、散热系统维护
半导体温控设备在运行过程中会产生热量，散热系统直接影响设备使用。定期检查散热风扇的运转情况，查看风扇叶片是否有变形、损坏或异物缠绕，若发现问题及时清理或更换叶片，保证风扇能够高速稳定地转动，为设备提供强劲的风冷散热。对于散热鳍片，要注意查看是否积尘过多，积尘会降低热交换效率，可使用压缩空气或软毛刷轻轻清理，确保热量能够顺畅散发出去，避免因散热不畅引发设备过热保护。
