【无锡冠亚】循环热水系统 高低温气流仪TES,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。
更新时间:2025-01-17
厂商性质:生产厂家
【无锡冠亚】循环加热设备 半导体制冷系统,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。
更新时间:2025-01-17
厂商性质:生产厂家
【无锡冠亚】循环加热器 半导体用温控设备,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。
更新时间:2025-01-17
厂商性质:生产厂家
【无锡冠亚】温控加热器 半导体温控设备TES,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。
更新时间:2025-01-17
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【无锡冠亚】半导体晶圆快速冷却系统 芯片散热水冷机,冠亚制冷的半导体控温chiller主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制,40℃以内加热方式采用压缩机热气加热,半导体控温chiller循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵,经过24小时连续运行拷机。
更新时间:2025-01-17
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【无锡冠亚】晶圆冷却腔体测温装置 单晶硅冷却循环装置,冠亚制冷的半导体控温chiller主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制,40℃以内加热方式采用压缩机热气加热,半导体控温chiller循环系统采用全密闭设计、循环泵采用磁力驱动泵,经过24小时连续运行拷机。
更新时间:2025-01-17
厂商性质:生产厂家